73人参与 • 2024-08-06 • 人工智能
在现代电子电路设计中,mos管无疑是最常用的电子元件之一。
功率半导体的核心是pn结,从二极管、三极管到场效应管,都是根据pn结特性所做的各种应用。场效应管分为结型、绝缘栅型,其中绝缘栅型也称mos管(metal oxide semiconductor)。
1.势垒电容:功率半导体中,当n型和p型半导体结合后,由于浓度差导致n型半导体的电子会有部分扩散到p型半导体的空穴中,因此在结合面处的两侧会形成空间电荷区(该空间电荷区形成的电场会阻值扩散运动进行,最终使扩散运动达到平衡)。
2.扩散电容:当外加正向电压时,靠近耗尽层交界面的非平衡少子浓度高,远离非平衡少子浓度低,且浓度自高到底逐渐衰减直到0。当外加正向电压增大时,非平衡少子的浓度增大且浓度梯度也增大,外加电压减小时,变化相反。该现象中电荷积累和释放的过程与电容器充放电过程相同,称为扩散电容。
mos管寄生电容结构如下,其中,多晶硅宽度、沟道与沟槽宽度、g极氧化层厚度、pn结掺杂轮廓等都是影响寄生电容的因素。
根据mos管规格书中对三个电容的定义我们可以知道
c
i
s
s
=
c
g
s
+
c
g
d
c_{iss}=c_{gs}+c_{gd}
ciss=cgs+cgd;
c
o
s
s
=
c
d
s
+
c
g
d
c_{oss}=c_{ds}+c_{gd}
coss=cds+cgd;
c
r
s
s
=
c
g
d
c_{rss}=c_{gd}
crss=cgd;
因此我们可以得到mos管单独三个引脚之间的电容
c
g
s
c_{gs}
cgs栅源电容、
c
g
d
c_{gd}
cgd栅漏电容、
c
d
s
c_{ds}
cds漏源电容。
c
d
s
c_{ds}
cds漏源电容又叫米勒电容。
在mos管的datasheet中,关于引脚间电容的表述主要有以下三个参数。
他们分别是
c
i
s
s
c_{iss}
ciss输入电容、
c
o
s
s
c_{oss}
coss输出电容、
c
r
s
s
c_{rss}
crss反向传输电容。这些电容产生于mos管的结构和构造中、不能够完全消除。在使用mos构建电路时,外部会使用到电阻、电容、二极管这些常用元件,而我们同时应该考虑到mos管内部所存在的这些结电容,以免与外部电路冲突。以便在后续开发、设计、调试时能够顺利进行。接下来是对这三个参数的讲解。
c
i
s
s
c_{iss}
ciss(input capacitance)意为输入电容。将漏源短接,用交流信号测得的栅极和源极之间的电容就是输入电容。
c
i
s
s
c_{iss}
ciss是由栅漏电容
c
g
d
c_{gd}
cgd和栅源电容
c
g
s
c_{gs}
cgs并联而成,或者
c
i
s
s
=
c
g
s
+
c
g
d
c_{iss}=c_{gs}+c_{gd}
ciss=cgs+cgd。当输入电容充电致阈值电压时器件才能开启,放电致一定值时器件才可以关断。
c
o
s
s
c_{oss}
coss(output capacitance)意为输出电容。将栅源短接,用交流信号测得的漏极和源极之间的电容就是输出电容。
c
o
s
s
c_{oss}
coss是由漏源电容
c
d
s
c_{ds}
cds和栅漏电容
c
g
d
c_{gd}
cgd并联而成,或者
c
o
s
s
=
c
d
s
+
c
g
d
c_{oss}=c_{ds}+c_{gd}
coss=cds+cgd对于软开关的应用。
c
r
s
s
c_{rss}
crss(reverse transfer capacitance)意为反向传输电容。在源极接地的情况下,测得的漏极和栅极之间的电容为反向传输电容。反向传输电容等同于栅漏电容,即
c
r
s
s
=
c
g
d
c_{rss}=c_{gd}
crss=cgd。
c
i
s
s
c_{iss}
ciss和驱动电路对器件的开启和关断延时有着直接的影响。
该参数直接影响到mos管的开关时间,
c
i
s
s
c_{iss}
ciss越大,同样驱动能力下,开通和关断的时间就越慢,开关损耗就越大,降低
p
d
p_{d}
pd值。这就是为什么要在电源电路中增加加速电路的原因,但是较慢的开关速度有比较好的emi特性。
c o s s c_{oss} coss非常重要,主要在于它可能会引起电路的谐振。在其他方面引起的问题较少。
c
r
s
s
c_{rss}
crss反向传输电容也常叫做米勒电容,对于开关的上升和下降时间来说是其中一个重要的参数,他影响着关断延时时间。
该电容随着漏源电压的增加而减小,尤其是输出电容和反向传输电容。同时
c
r
s
s
c_{rss}
crss引起的正反馈也非常容易引起自激振荡。
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